证券之星消息,凌玮科技(301373)08月05日在投资者关系平台上答复投资者关心的问题。投资者提问:请问公司,你们的产品在人型机器人和半导体上有何应用,卿详细介绍一下...
4月28日晚间,鼎龙股份披露一季报。2025年第一季度,公司实现营业收入8.24亿元,同比上升16.37%;实现归属于上市公司股东的净利润1.41亿元,同比上升72.8...
每经AI快讯,4月9日,鼎龙股份在互动平台表示,海外市场拓展是公司半导体材料未来业务发展的重要组成部分,相关工作目前正在按计划推进中:如CMP抛光垫产品已在某主流外资逻...
金融界3月20日消息,鼎龙股份(300054)披露投资者关系活动记录表显示,公司在半导体材料业务方面持续扩展,2024年公司CMP抛光垫销售收入约7.31亿元,同比增长...
1965年沃尔什和赫尔佐格提出二氧化硅溶胶和凝胶抛光的方法,自此,以二氧化硅浆料为代表的化学机械抛光(CMP)工艺就逐渐取代了机械抛光的主导地位;20世纪80年代中期,...
鼎龙股份(300054)10月9日晚间公告,公司控股子公司湖北鼎汇微电子材料有限公司CMP抛光垫产品销售持续保持快速增长态势,并于2024年9月首次实现抛光垫单月销量破...
1、CMP抛光垫是实现平坦化抛光的核心要件之一根据观研报告网发布的《中国CMP抛光垫行业发展趋势分析与未来投资预测报告(2024-2031年)》显示,在晶圆进行化学机械...
集成电路是现代化产业体系的核心枢纽,半导体材料作为集成电路产业的基石,在集成电路制造技术不断升级和产业的持续创新...
鼎龙股份披露投资者关系活动记录表显示,研磨粒子是CMP抛光液的核心原材料,对抛光液产品品质有较大影响,同时在抛光液的材料成本中占比较高。公司实现了研磨粒子的自主制备,有...
近日,多家企业已披露2024年半年度业绩预告,其中鼎龙股份业绩亮眼。公司预计2024年半年度净利润为2.01亿元—2.21亿元,同比增长110%—130%。公告称,受国...
1988年,美国商用机器公司(IBM)最先将CMP工艺应用于4MDRAM器件的制造。由于介电质、金属材料等通过化学气相沉积(CVD)或物理气相沉积(PVD)工艺沉积在硅...
抛光液中磨料的作用主要是在晶圆和抛光垫的界面之间进行机械研磨,以确保CMP过程中的高材料去除率。同时,磨料也是影响抛光液稳定性的重要因素之一。众多磨料中,SiO2磨料因...
金太阳12月27日在互动平台表示,公司参股子公司东莞领航电子新材料有限公司主要产品包括了IC、硅晶圆、碳化硅用半导体抛光液,3C消费电子用精密抛光液和清洗液........
化学机械抛光(ChemicalMechanicalPolishing,CMP)技术是超大规模集成电路制造工艺中的关键技术之一,能实现集成电路(IC)制造中晶圆表面全局平...
据台湾《经济日报》援引日经亚洲今日报道,日本昭和电工将投资1.5亿美元(200亿日元)扩建其日本及中国台湾工厂的半导体CMP抛光液产能,产能总增幅约为20%,新产能预计...
致力于解决关键大赛道领域中各类核心进口替代类创新材料的“卡脖子”问题,鼎龙股份(300054.SZ)再度加码研发...
10月10日,凯盛科技(600552.SH)发布公告表示,公司控股子公司安徽中创拟投资8481万元在中创公司现有厂区内建设年产3500吨CMP(抛光研磨材料)项目生产线...
3月28日,中国超硬材料网市场总监刘小雨、市场经理高峰一行走...
公元1278年,此时的南宋就如零丁洋里的一片到处漏水的孤舟,...
2023年9月20日,时隔四年,期待已久的第六届磨料磨具磨削展览会在郑州国际会展中心隆重开幕。本次展览会由中国机械工业集团有限公司、国机精工股份有限公司、中国机械国际合作股份有限公司联合主办。旨在推动中国磨料磨具行业的快速发展,加强国内外企业的交流与合作。
1963年,我国成功研制出第一颗人造金刚石,经过几代人的拼搏奋斗,实现了从无到有、从小到大、从弱到强的华丽蝶变。人造金刚石及其制品在我国航空航天、国防军工、机床机械等领域发挥着愈发重要的作用。不仅如此,随着金刚石技术的选代,金刚石民用领域—培育钻石迎来了自己的大爆发,中国占据了世界培育钻石产量的80%以上,近几年在国际上产生了巨大影响力。